728x90 반응형 ASML1 노광공정..슈퍼 '을' ASML의 EUV..옴스트롱으로 가는 열쇠 EUV 'Extrme Ultra Violet' 극자외선 차세대 노광기술의 핵심이라고 불리우는 'EUV' 바로 1500억원 상당의 ASML에서 만든 반도체 공정기술에 꼭 필요한 노광장비이다 노광(Exposure) 공정에서는 반도체 미세공정화가 진행되면서 노광장비의 해상력을 높임으로서 설계상의 선폭을 최소화하는 방향으로 광원개발이 이뤄지고 있다. 회로와 회로 사이의 간격이 줄어들어 칩 면적이 감소하면 웨이퍼 한 장에서 얻을 수 있는 칩 수가 증가하고 이로 인해 원가 절감 효과가 이어지기 때문이다. 전체 공정에 소요되는 시간 중 약 60%가 노광공정에서 할애되며 생산원가의 약 33~37%를 차지하는 공정이기 때문에 노광공정을 통한 원가절감 및 공정 단순화는 반도체 생산업계 의 공동 목표이다 반도체 칩을 생산할.. 2021. 2. 24. 이전 1 다음 728x90 반응형
